穿越之后我带领国家登临宇宙之巅 第121章 收到国科院的实习邀请(第2页/共3页)


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酶“包”进薄膜里。这样，酶就被固定在了电极表面，不需要纳米颗粒，不需要pH触发，不需要复杂的递送系统。就是简单地把酶“粘”在电极上。她做了第一组实验——聚合时间10分钟，酶浓度1毫克/毫升。测了酶的活性——保持80%。测了稳定性——在500度下，10分钟后活性降到50%。比纳米颗粒递送系统的30%好很多。她满意了。简单，粗暴，有效。

    她把结果告诉周明远。周明远看了数据，说：“你这个‘酶电极’，比你的‘基因药剂’更简单，更实用。你可以写一篇论文，投《Advanced Materials》。”林小镜愣了一下。《Advanced Materials》，材料科学领域的顶级期刊，影响因子25，比《Nature》还高。她从来没想过自己能投这个期刊。但周明远说“投”。他相信她的工作够得上这个标准。她不知道够不够，但她想试试。

    她用了三周的时间，写完了论文初稿。题目是“Enzyme-Electrode for Self-Healing MPDT Thrusters”。三十页，一万字，二十张图，三十篇参考文献。她把初稿发给周明远。周明远改了三天，改完发给她。她又改了两天，改完发给他。他又改了一天，改完说“投”。她投了。

    2028年11月20日，林小镜收到了《Advanced Materials》的审稿意见。两个审稿人，一个小修，一个大修。小修的那位说“论文有新意，实验数据充分，建议接收”。大修的那位说“论文有新意，但实验数据不够充分，需要补充酶在真实等离子体环境中的稳定性测试”。林小镜看着那条意见，心里想：他说得对。她只测了500度下的稳定性，没测等离子体环境中的稳定性。等离子体中的离子轰击，会加速酶的失活。她需要补实验。

    她给赵志远打了个电话。“志远，帮我测一下酶电极在等离子体环境中的稳定性。条件：500度，10帕，氩气等离子体，离子能量100电子伏。时间：10分钟，30分钟，60分钟。测酶活性的衰减曲线。”

    “好。一周后给你数据。”

    一周后，数据来了。酶活性在等离子体中衰减得很快——10分钟后剩30%，30分钟后剩10%，60分钟后剩5%。比在500度空气中差了很多。林小镜看着那些数据，心里想：等离子体中的离子轰击，确实会加速酶的失活。她需要保护酶。用什么保护？她想到了一个东西——氧化铝。氧化铝耐高温，耐等离子体轰击，可以在电极表面镀一层极薄的氧化铝薄膜，保护酶，同时不影响酶的催化活性。她给王教授打了个电话——材料学院的王教授，原子层沉积专家。

    “王老师，您能在酶电极表面镀一层氧化铝吗？厚度1纳米，温度150度，不能超过150度，否则酶会失活。”

    “150度？原子层沉积的最低温度是200度。200度以下，前驱体不反应。”

    林小镜沉默了几秒。200度，酶会失活。她需要换一种保护材料，一种能在低温下沉积的。她想到了氧化硅。氧化硅可以用溶胶-凝胶法在室温下沉积，不需要高温。她给李芳打了个电话。

    “李芳，你帮我做一层氧化硅保护层。溶胶-凝胶法，室温，厚度5纳米。涂在酶电极表面，然后测酶活性。”

    “好。三天后给你数据。”

    三天后，数据来了。氧化硅保护层，厚度5纳米，酶活性保持90%。比没有保护层的50%好很多。然后她测了等离子体环境中的稳定性——10分钟后剩60%，30分钟后剩30%，60分钟后剩10%。比没有保护层的5%好，但还不够。她需要更好的保护。

    她想到了多层保护。先镀一层氧化硅，再镀一层氧化铝，再镀一层氧化硅。三明治结构，每一层都有不同的功能。氧化硅保护酶不受离子轰击，氧化铝保护氧化硅不受等离子体腐蚀，氧化硅保护氧化铝不受化学侵蚀。她把这个想法画在了草稿纸上。赵志远看到了，说：“你这个结构，像三明治。”林小镜说：“就是三明治。”

    她让李芳做了三明治保护层。测了等离子体环境中的稳定性——10分钟后剩80%，30分钟后剩60%，60分钟后剩40%。这个结果，她满意了。她把补充实验的数据写进论文，重新投稿。这次，审稿人没有意见了。接收。

    2028年12月15日，林小镜的论文在《Advanced Materials》上在线发表。她看着那个页面，看着自己的名字——Lin Xiaojing，后面跟着周明远、赵志远、李芳。她笑了。不是“表演”的笑，是真正的笑。因为她的工作，被材料科学领域认可了。不是“跨学科”的认可，是“专业”的认可。她可以在材料科学领域站住脚了。这种“站住脚”，是真正的站住脚。

    晚上，她给苏婉清打电话。“妈，我发了一篇论文。”

    “又发了？第几篇了？”

    “第六篇。影响因子25，比《Natur
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