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穿越之后我带领国家登临宇宙之巅 第112章 被质疑“跨领域能行吗”(第2页/共3页)


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“不想演了”。大一的时候,她“表演”谦虚、“表演”胆小、“表演”不自信。现在,她不想演了。她想做自己。做自己,就是有什么说什么。不表演,不隐藏,不控制。但她也知道,她不能“完全”做自己。因为“自己”是“异常”的。她只能“部分”做自己。在“安全”的范围内,做“真实”的自己。这个范围,是她自己划的。她可以在李维先面前“真实”一点,因为李维先是她的“伯乐”,不会伤害她。她不能在所有人面前“真实”,因为有些人会伤害她。

    “李老师,我不是讲条件。我是陈述事实。我能做这个项目,需要帮助。如果有人愿意帮我,我们一起做。没有人愿意帮我,我一个人做。”林小镜说。

    李维先看着她,沉默了几秒。然后他说:“好。我帮你联系材料学院的王教授。他是原子层沉积的专家。”

    “谢谢李老师。”

    2027年11月10日,林小镜去材料学院找王教授。王教授五十多岁,头发花白,戴着一副厚厚的眼镜。他的实验室在材料学院的五楼,设备比航天学院的先进得多——原子层沉积设备、化学气相沉积设备、物理气相沉积设备、扫描电镜、透射电镜、X射线衍射仪。林小镜看着那些设备,心里想:有钱。材料学院真有钱。

    “你就是林小镜?李维先的学生?”王教授看着她,目光里有一点好奇。

    “嗯。王老师好。”

    “你的报告我看了。原子层沉积钨薄膜,技术上没问题。但你要的选择性沉积,需要光刻。光刻是微电子学院的事,不是我的事。我只能帮你做全覆盖的沉积。选择性沉积,你去找微电子学院的陈教授。”

    “好。谢谢王老师。”

    2027年11月15日,林小镜去微电子学院找陈教授。陈教授四十多岁,瘦高,戴着一副无框眼镜。他的实验室在微电子学院的二楼,里面有光刻机、刻蚀机、镀膜机、测试仪。林小镜看着那些设备,心里想:更贵。

    “你就是林小镜?王老师跟我提过你。你想做选择性沉积?”陈教授问。

    “嗯。用光刻胶做掩膜,在电极表面做出图案,只在需要的地方沉积。”

    陈教授看着她,沉默了几秒。“你这个想法,在半导体制造中很常见。但在航天推进器中,没人做过。你知道为什么吗?”

    “为什么?”

    “因为电极的工作环境太恶劣了。高温、高真空、等离子体轰击。光刻胶在这种环境下,几秒钟就分解了。你做出来的图案,一开机就没了。”

    林小镜愣了一下。她没想到这个问题。光刻胶是有机物,不耐高温。几百度的温度下,几秒钟就碳化了。她的“选择性沉积”方案,在原理上可行,在实际中不行。她需要换一种方法。不用有机物,用无机物。用硬掩膜,比如金属或氧化物。她可以在电极表面沉积一层硬掩膜,用激光刻蚀出图案,然后进行原子层沉积,最后去掉掩膜。这个方法,比光刻复杂,但可行。激光刻蚀,她有设备——实验室里有一台脉冲激光沉积设备,可以当激光刻蚀用。

    “陈老师,您说得对。光刻胶不耐高温。我换硬掩膜。金属或者氧化物。”

    陈教授看着她,目光里有惊讶,有欣赏,有一点好奇。“你学得很快。你这个学生,有意思。”

    “谢谢陈老师。”

    2027年11月20日,林小镜回到自己的实验室。她开始设计硬掩膜方案。掩膜材料——钨。和电极材料一样,不会污染电极。掩膜厚度——100纳米。掩膜图案——点阵,间距1毫米。制备方法——先用原子层沉积在电极表面沉积一层钨薄膜,然后用激光刻蚀出点阵图案,然后进行第二次原子层沉积,最后用化学机械抛光去除掩膜。留下来的,就是点阵状的沉积区。这些点阵,就是“自修复颗粒”的位置。当电极表面发生烧蚀时,点阵中的沉积材料会释放出来,填补损伤。她把这个设计画在了草稿纸上,看了很久。这个设计,比她最初的“微生物沉积”更复杂,但更可行。不是“放弃”了生物,是“吸收”了生物的思路,用工程的方法实现。她不是生物学家,也不是化学家,她是工程师。工程师的任务是解决问题,用什么方法不重要。重要的是“能行”。

    晚上,林小镜坐在书桌前,打开日记本,写下今天的日记。

    今天,被质疑了。李维先说“跨领域太大,不一定能行”。王教授说“选择性沉积不是我的事”。陈教授说“光刻胶不耐高温”。他们说得对。我的想法太大胆,跨领域太多,风险太高。但我不想放弃。光刻胶不耐高温,换硬掩膜。有机物不行,用无机物。方法可以换,目标不变。自修复电极,我一定要做出来。

    程远发来消息——示波器卖出了九万台。远镜科技,越来越好。我笑了。因为程远在做,我也在做。他做示波器,我做推进器。

    苏婉清打电话——“小镜,今天怎么了?声音听起来有点累。”“没事。就是被老师质疑了。”“质疑什么?”“说我跨领域太大,不一定能行。”“那你觉得能行吗?”
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